为什么氖气对芯片制作如此重要

为什么氖气对芯片制作如此重要。氖气主要用于DUV深紫外光刻工艺的半导体图案。

这个过程如下：光刻胶首先覆盖了硅电路的光滑表面。光刻胶具有光敏性。准分子激光器控制光刻曝光。曝光会导致光刻胶的化学变化。一些光刻胶被冲走，并通过蚀刻形成电路图案。氖气是一种惰性气体。它只间接参与准分子激光器产生紫外线的化学和物理过程。在含有氩AR和氟F2的气体混合物中放电可以产生短寿命的刺激态分子（ARF）。这种瞬态分子随着193纳米紫外线的释放而分解。将放电定位在两个合适的镜子之间，最终形成深紫外线激光。在此过程中，氖气主要作为缓冲气体存在。它是反应氩和氟的惰性载体。

由于准分子的化学性质非常脆弱。激光操作严重破坏了氖气和氩气的杂质。因此，芯片制造商必须每隔几周更换这两种气体。

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